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メタル堆積+ポスト酸化による high-k絶縁膜の作製および評価
間欠供給MOCVD法を用いたhigh-k膜の作成
ゲート絶縁膜としてのSiO2膜作製および評価
Ge-MOSにおけるゲート絶縁膜の作成
テトラセンを用いた有機トランジスタの作製
CVD法を用いたGeO2膜の作製および評価
テトラセンを用いた有機FETの開発
近年様々な機能を持つ有機半導体が着目されている。当研究室では有機半導体としてテトラセンを採用し、その特性調査及び有機FETへの応用を検討している。
[研究担当者]
M2 中尾 弘樹
B4 堀加太斗
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