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メタル堆積+ポスト酸化による high-k絶縁膜の作製および評価
間欠供給MOCVD法を用いたhigh-k膜の作成
ゲート絶縁膜としてのSiO2膜作製および評価
Ge-MOSにおけるゲート絶縁膜の作成
テトラセンを用いた有機トランジスタの作製
CVD法を用いたGeO2膜の作製および評価
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2011 国際会議＠ボストン
2011 高尾山
2011 応物＠山形
2010 高尾山
2010 国際会議＠ラスベガス
2010 学会＠長崎
2010 スキー合宿@八方
2009 シンポジウム＠サンタ・バーバラ
2009 高尾山
2009 国際会議＠ウィーン
2009 学会＠富山
2009 スキー合宿＠八方
2008 シンポジウム＠ローマ
2008 国際会議＠ハワイ
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2019年03月05日 - TYD
2019年03月05日 - ghji;gh;yfyulyfyl
2018年12月17日 - 実験
2016年05月12日 - 新年度初
2016年05月12日 - あああ
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